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La pulverización catódica es un nuevo tipo de método de deposición física de vapor (PVD).

La pulverización catódica es ampliamente utilizada en: pantallas planas, industria del vidrio (incluye vidrio arquitectónico, vidrio automotriz, vidrio de película óptica), células solares, ingeniería de superficies, medios de grabación, microelectrónica, luces automotrices y recubrimientos decorativos, etc.

     

La pulverización catódica se utiliza principalmente en: pantallas planas, industria de vidrio revestido (incluido vidrio arquitectónico, vidrio automotriz, vidrio óptico y otras películas), energía solar de película delgada, ingeniería de superficies (decorativa y herramientas), medio de grabación (magnético, óptico), luces de automóviles microelectrónicas, recubrimiento decorativo.

 
En el campo del objetivo giratorio, propuso el objetivo de tubo monolítico en el año 2009, que ha sido reconocido por clientes nacionales y extranjeros. Podemos proporcionar los siguientes tamaños de acuerdo con los requisitos de los clientes:
Objetivo planar: peso individual: ≤260 kg, pureza: ≥99.97%

Objetivo giratorio: OD: Φ140-180 mm; ID: Φ125-Φ135 mm. longitud≤3300 mm, pureza: ≥99.97%

钼棒

 
Composición química
Contenido de MoLa suma de los contenidos de otros elementosContenido de cada elemento
≥99.97%≤0.03%≤0.001%